最新の！ 極薄のダイヤモンド膜は、高圧なしでグラフェンから作ることができます！

最新の！ 極薄のダイヤモンド膜は、高圧なしでグラフェンから作ることができます！

外国メディアの報道によると、グラフェンはたった1原子の厚さですが、その強さは誰もが聞く必要がありますが、どうすればそれを強くする方法がありますか？ -それをダイヤモンドの断片に変えます。 韓国の研究者たちは、高圧を使用せずにグラフェンを最も薄いダイヤモンド膜に変換する方法を開発しました。

  グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドはすべて同じ材料である炭素でできていますが、これらの材料の違いは炭素原子の配置と組み合わせです。 グラフェンは、わずか1原子の厚さの炭素層であり、それらの間に強い水平結合があります。 グラファイトは、互いに積み重ねられたグラフェンシートの層です。 各層は内部に強い結合があり、異なる層は弱い結合で接続されています。 ダイヤモンドでは、炭素原子が3次元で緊密に結合されて、非常に硬い材料を形成しています。

     グラフェン層間の結合が強化されると、それはディアマンと呼ばれる2Dのダイヤモンドの形に変わります。 問題は、それが通常そのように行われるということです。 1つの方法は非常に高い圧力を必要とし、圧力がなくなると、材料はグラフェンに還元されます。 他の研究では、グラフェンに水素原子を追加する必要がありますが、これにより結合の制御が困難になります。

    この新しい研究では、基礎科学研究所（IBS）と蔚山科学技術大学（UNIST）の研究者が水素をフッ素に置き換えました。 彼らのアイデアは、2層グラフェンをフッ素原子にさらすことでした。このようにして、2層のグラフェンをより緊密に結合させ、より強力な化学結合を形成します。

    この新しい研究では、基礎科学研究所の研究者が最初に信頼性の高い化学蒸着（CVD）法を使用して、銅とニッケルの基板上に2層グラフェンを作成しました。 次に、グラフェンを二フッ化キセノンの蒸気にさらしました。 このとき、混合物中のフッ素原子は炭素原子に付着し、それによってグラフェン層間の結合を強化し、極薄のフッ素化ダイヤモンド、F-ジアマン（IBS）と蔚山科学研究所の層を形成します。 and Technology（UNIST）は、水素をフッ素に置き換えました。 彼らのアイデアは、2層グラフェンをフッ素原子にさらすことでした。このようにして、2層のグラフェンをより緊密に結合させ、より強力な化学結合を形成します。

新しいプロセスは、過去の他のプロセスよりもはるかに単純であるため、比較的簡単にスケーリングできます。 超薄型ダイヤモンドは、特にワイドギャップ半導体として、より強く、より小さく、より柔軟な電子部品にすることができます。

    この研究の筆頭著者であるPavelV。Bakharevは、この単純なフッ素化法は、プラズマやガス活性化メカニズムを使用せずに、ほぼ室温および低圧で機能するため、欠陥の可能性を大幅に減らすことができると指摘しました。

    関連する研究報告がNatureNanotechnologyに掲載されました。